單晶硅清洗應用超純水設備的優勢

　　單晶硅是指具有基本完整點陣結構的硅單晶體。不同的方向有不同的性質，是一種很好的半導體材料。用于制造半導體設備、太陽能電池等。無論應用哪些行業，都必須進行加工清洗，超純水設備是一種出水電阻率很高、無雜質、無導電的設備，滿足單晶硅的清洗要求。

　　萊特萊德單晶硅清洗超純水設備采用雙級反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。但單晶硅清洗超純水設備長期工作后，如果不定期維護，容易污染，因此單晶硅清洗超純水設備應定期保養，確保設備出水水質符合要求。

　　該設備通常由預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成整體設備，那么設備都具有哪些性能優勢值得被選擇呢?

　　1、無需酸堿再生

　　在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了床酸堿再生時產生的廢酸廢堿的處理和繁重的工作，同時還保護了環境。

　　2、出水連續穩定、簡單操作

　　在混床中由于每次再生和水質量的變化，操作過程變得極其復雜，而EDI模塊的產水過程是穩定連續的，產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，簡化了操作流程。

　　3、模塊化設計

　　超純水處理設備采用積木式結構，可依據場地的高度和靈活地構造，模塊化設計，使EDI在生產工作時能方便維護。

　　4、無需藥劑和任何再生化學品

　　不需中和藥劑，因為EDI膜塊不會有酸堿廢液產生。也無需使用任何再生化學品進行再生，這樣也就減少了化學品運輸問題，同時降低了系統運行費用。

　　萊特萊德超純水設備可連續穩定地制備優質超純水，水質穩定，可更好地幫助集成電路企業的發展，形成更強的企業競爭力。